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光化學高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源，環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產品，裝置非標采用耐腐蝕材質。PLC 系統(tǒng)采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高，數據精確度及重復性好，安全可靠 并能長周期穩(wěn)定運行

濕式氧化實驗裝置，具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環(huán)形永磁驅動靜密封，攪拌力強，無泄露。適用于石油，化工，制藥，染料，軍工，礦冶，食品等行業(yè)的科研院所，和大專院校的科研領域，尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。

超臨界水氧化裝置 進液控制單元由溶劑液體進料單元和催化劑溶液進料單元組成。每一個液相進料操作均設置有兩個原料罐，兩個液體精密計量泵，一組出口操作管閥件組成。

YZSR10L全自動反應釜采用 釜頭固定式、整機一體化設計，結構合理，功能完善，中文菜單、輕松使用；全新觸摸屏式操作，是目前市場上高科技的實驗室反應設備；加熱系統(tǒng)與下釜體均采用電動升降模塊，左右旋轉90度，便于實驗操作；控制系統(tǒng)配備雙控溫模塊（釜內與加熱器），自動進水降溫功能，超溫、超壓及故障聲光報警功能，恒溫定時及程序升溫等功能；

加速氫能賽道儲氫研發(fā)利器，設計反應溫度500度 反應設計壓力10MPa，催化劑填裝量5ml，可以進行加氫脫氫工藝研究，儲氫原料全過程伴熱，進入液體分配模塊，均勻分配成4路，分配精度1%RSD,出分配后可以快速進入4通道反應器進行反應，通道間溫度均勻性0.5℃，反應出口獨立新鮮樣采樣，產物氣液分離，氣相匯總進行壓力控制后尾氣排放